GA JAPAN 2017「PLOT 設計のプロセス」展
概要

今年で6回目を迎える、冬の展覧会「PLOT 設計のプロセス」展。
同タイトルで編まれた『GA JAPAN 149』の特集では、最新プロジェクトのスタディ手法をライブにリポートしたり、近作をリバースエンジニアリング的に分析するなど、14組の建築家やデザイナーへのプロセスにフォーカスしたインタヴューを通して、設計手法の今を浮かび上がらせる内容になりました。本展覧会は,同特集の舞台を誌面からギャラリーへ移し、模型やドローイング、インスタレーションを交えて、14組の「設計のプロセス」をご紹介いたします。

出展者
(敬称略)

中川エリカ、妹島和世+西沢立衛/SANAA、隈研吾、平田晃久、安藤忠雄、三澤遥、北川原温、周防貴之、
杉本博司+榊田倫之/新素材研究所、日建設計、有馬裕之、大江匡、藤原徹平+針谷將史、大西麻貴+百田有希/o+h

会期

2017年11月25日(土)~2018年2月12日(月・祝)
休館期間:2017年12月29日(金)~2018年1月9日(火)

開館時間

12:00~18:30

会場

GAギャラリー(東京都渋谷区千駄ヶ谷3-12-14)

アクセス

http://www.ga-ada.co.jp/japanese/ga_gallery/gallery_map.html

入場料

600円[前売券,団体10名以上=500円]

問合せ

03-3403-1581/info@ga-ada.co.jp

詳細

http://www.ga-ada.co.jp/japanese/ga_gallery/2017/1711-1802_GAJ2017/gallery_gaj2017.html