DESIGNART TOKYO 2025　トークイベント「”無為に斑”というLIXILの挑戦から考える未来の建築とは」
概要

DESIGNART TOKYO 2025に出展するLIXILのインスタレーション「無為に斑（MUI NI MULA）」のコンセプトを軸に、建築家・永山祐子氏とLIXILが語り合います。永山氏が考える未来の建築、そしてLIXILデザイン部門が考える新たな空間価値について深く掘り下げ、未来の建築を考えるのにポイントとなるのはどんなことなのか問いかけます。
イベント会場内では、DESIGNART展示で使われている環境配慮型素材はもちろんのこと、LIXILが開発した環境配慮素材を一同にご覧いただけます。
日時

2025年10月31日（金）16:50-17:40（受付開始 16:30）
会場

桑沢デザイン研究所 本校舎1F（東京都渋谷区神南1-4-17）
参加費

無料（※当日ご参加ご希望の方は事前にチケットをお申込みください）
登壇者（敬称略）

永山 祐子（建築家、有限会社永山祐子建築設計 代表）
羽賀 豊（株式会社LIXIL 常務役員 デザイン＆ブランド ジャパン部門 リーダー）
井上 貴之（株式会社LIXIL デザイン＆ブランド ジャパン部門 LHTデザインセンター長）
主催

LIXIL ｜ 無為に斑 MUI NI MULA
申込・問合せ・詳細

https://peatix.com/event/4601483/view

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